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真空电镀工艺的特点有哪些?外协加工订单

2023-06-16 本站作者 【 字体:

                       

空电镀主要包括:真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。它们都是采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜,通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层,同时具有速度快附着力好的突出优点,但是价格也较高,可以进行操作的金属类型较少,一般用来作较高档产品的功能性镀层,例如作为内部屏蔽层使用。


真空电镀工艺的特点有:


1.真空电镀所镀的金属膜层是需要比较薄的,应该在0.01-0.1微米,并且可以严格的复制出镀件表面的形状;


2.真空电镀的工艺使用电压不是很高,应该在200V,工艺流程比较简单;


3.工艺所使用的蒸镀锅瓶的容积比较小,电镀件的出数件比较少,生产效率比较低;


4.真空电镀工艺只限于比钨丝熔点比较低的金属,如铝、银、铜、金等等镀件饰品;


5.真空电镀的工艺质量要求比较高,电镀之前必须要打底油来弥补工件表面存在的一些不足;


6.真空电镀工艺可以镀的塑料件材质有许多,包括ABS、PE、PVC等等。


               
           
       
   
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