PVD 真空镀膜知识 外协加工订单
2022-12-20 本站作者 【 字体:大 中 小 】
最近网上出现了创新PVD 真空镀膜技术,其实真空图层技术在上个世纪六十年代就出现的。下面有关PVD 真空镀膜技术的知识,小编带你了解一下。
一、什么是PVD?
PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
目前常用的PVD有三种:真空蒸镀、溅射镀膜和离子镀;它们的工作原理如下:
1、真镀空膜:是在适当的压强下用电子束等热源加热材料使之蒸发,蒸发的原子或分子直接在工件表面形成沉积层;
2、溅射镀膜:是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法,施镀时,将工作室抽成真空,冲入氩气做为工作气体,并保持其压力为0.13至1、33帕;
3、离子镀:是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离,在电场的作用下,使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
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我们通常所说的PVD镀膜,指的就是真空离子镀膜;通常所说的PVD镀膜机,指的也就是真空离子镀膜机。
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